關于《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志是否接受AI輔助的論文，目前并沒有明確的官方聲明指出該雜志絕對接受或拒絕AI輔助撰寫的論文，可能會根據具體情況進行逐案評估，作者在投稿前可以與雜志社進行溝通或咨詢在線客服。

SCI期刊對AI輔助論文的接受程度因期刊而異，以下是對SCI期刊接受AI輔助論文情況的詳細分析：

一、AI輔助論文的使用限制

禁止生成核心內容、禁止署名、保證數據完整性

二、AI輔助的用途

語言潤色，文獻綜述，圖表推薦

三、建議與策略

1.了解目標期刊政策：在投稿前，作者應仔細研究目標SCI期刊的政策和指南，了解其對AI輔助論文的態度和要求。

2.明確聲明AI使用情況：如果論文中使用了AI輔助技術，作者應在投稿時明確聲明，并提供詳細的AI使用說明和范圍。

3.保持學術誠信與原創性：作者應確保論文的核心內容和創新點是由自己獨立完成的，避免過度依賴AI生成的內容。

4.深度改寫與個性化處理：對AI生成的內容進行深度改寫和個性化處理，以體現個人的學術思考和見解。

《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志創刊于1981年，國際標準簡稱為PLASMA CHEM PLASMA P，ISSN號：0272-4324，E-ISSN號：1572-8986。

該雜志由Springer US出版，出版周期為Quarterly，出版語言為English。作為一本專注于工程技術-工程：化工領域的學術期刊，它被國際權威數據庫SCIE收錄，在學術界具有較高的影響力。

《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志中文名稱為：等離子化學和等離子處理。

本期刊發表有關等離子體化學和等離子體處理基礎和應用研究的原創論文，范圍包括從非熱等離子體到熱等離子體的處理等離子體、等離子體基礎研究以及特定等離子體應用的研究。此類應用包括但不限于等離子體催化、環境處理（包括液體和氣體處理）、等離子體的生物應用（包括等離子體醫學和農業）、表面改性和沉積、粉末和納米結構合成、能源應用（包括等離子體燃燒和重整）、資源回收、等離子體與電化學的耦合以及等離子體蝕刻。還征集等離子體化學動力學研究以及等離子體與表面的相互作用。投稿必須充分考慮等離子體的作用，例如相關的等離子體化學、等離子體物理或等離子體-表面相互作用；僅考慮使用等離子體處理的材料或物質的性質的稿件不在本期刊的范圍內。

分區情況：

在中科院最新升級版分區表中，該雜志在大類學科物理與天體物理中位于3區，小類學科ENGINEERING, CHEMICAL工程：化工中位于3區。

JCR分區信息按JIF指標學科分區，該雜志在ENGINEERING, CHEMICAL領域為Q3。

Cite Score數據顯示，CiteScore：5.9，SJR：0.48，SNIP：0.912

學科類別

大類：Physics and Astronomy，小類：Condensed Matter Physics，分區：Q1，排名：108 / 434，百分位：75%； 大類：Physics and Astronomy，小類：Surfaces, Coatings and Films，分區：Q2，排名：34 / 132，百分位：74%；

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