不同雜志的版面費(fèi)收費(fèi)標(biāo)準(zhǔn)存在差異，部分期刊也有可能不收取版面費(fèi)。想查詢《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志的版面費(fèi)，可以按以下步驟操作：
1、使用學(xué)術(shù)數(shù)據(jù)庫(kù)查詢
Web of Science/Scopus：搜索雜志名稱，查看其信息頁(yè)是否標(biāo)注版面費(fèi)。
DOAJ（開(kāi)放獲取期刊目錄）：若雜志在列，可查看公開(kāi)的版面費(fèi)信息。
2、聯(lián)系編輯部或同行
郵件詢問(wèn)：如果在投稿系統(tǒng)中未找到版面費(fèi)信息，可通過(guò)郵件直接聯(lián)系雜志社，提供雜志名稱和具體問(wèn)題，通常會(huì)得到準(zhǔn)確答復(fù)。
電話咨詢：在緊急情況下，也可以直接撥打雜志社電話進(jìn)行詢問(wèn)。
咨詢同領(lǐng)域發(fā)表過(guò)該期刊的學(xué)者，了解實(shí)際收費(fèi)情況。
3、機(jī)構(gòu)或出版社政策
機(jī)構(gòu)協(xié)議：若您隸屬高校或研究所，可通過(guò)圖書(shū)館或科研管理部門查詢是否有版面費(fèi)資助。
出版社政策：檢查出版社是否對(duì)旗下期刊統(tǒng)一規(guī)定版面費(fèi)。
一、《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志基本信息
中文名稱：等離子化學(xué)和等離子處理
國(guó)際簡(jiǎn)稱：PLASMA CHEM PLASMA P
E-ISSN：1572-8986，ISSN：0272-4324
創(chuàng)刊時(shí)間：1981年，由Springer US出版
出版周期：Quarterly
該雜志專注于工程技術(shù)-工程：化工（ENGINEERING, CHEMICAL），每篇文章都是該主題的最新、獨(dú)立的摘要，旨在為尚未深入研究該領(lǐng)域的讀者提供易于理解的內(nèi)容。
開(kāi)放獲取（OA）政策屬于未開(kāi)放，Gold OA文章占比：14.18%。
二、《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志學(xué)術(shù)影響力與分區(qū)
影響因子：2.6，其JCR分區(qū)：Q2。
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū)學(xué)科：ENGINEERING, CHEMICAL，收錄子集：SCIE，分區(qū)：Q3，排名：91 / 170，百分位：46.8%；PHYSICS, APPLIED，收錄子集：SCIE，分區(qū)：Q2，排名：81 / 179，百分位：55%；PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，收錄子集：SCIE，分區(qū)：Q2，排名：12 / 40，百分位：71.3%；
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)學(xué)科：ENGINEERING, CHEMICAL，收錄子集：SCIE，分區(qū)：Q2，排名：55 / 171，百分位：68.13%；PHYSICS, APPLIED，收錄子集：SCIE，分區(qū)：Q2，排名：69 / 179，百分位：61.73%；PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，收錄子集：SCIE，分區(qū)：Q2，排名：17 / 40，百分位：58.75%；
CiteScore：5.9
Cite Score（2024年最新版）
- CiteScore：5.9
- SJR：0.48
- SNIP：0.912
| 學(xué)科類別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 大類：Physics and Astronomy 小類：Condensed Matter Physics | Q1 | 108 / 434 |
75%
|
| 大類：Physics and Astronomy 小類：Surfaces, Coatings and Films | Q2 | 34 / 132 |
74%
|
| 大類：Physics and Astronomy 小類：General Chemical Engineering | Q2 | 79 / 273 |
71%
|
| 大類：Physics and Astronomy 小類：General Chemistry | Q2 | 119 / 408 |
70%
|
CiteScore：該指標(biāo)由Elsevier于2016年提出，指期刊發(fā)表的單篇文章平均被引用次數(shù)。CiteScorer的計(jì)算方式是：例如，某期刊2022年CiteScore的計(jì)算方法是該期刊在2019年、2020年和2021年發(fā)表的文章在2022年獲得的被引次數(shù)，除以該期刊2019年、2020年和2021發(fā)表并收錄于Scopus中的文章數(shù)量總和。
分區(qū)情況
中科院分區(qū)：
在中科院最新升級(jí)版分區(qū)表中，大類學(xué)科為物理與天體物理，分區(qū)：3區(qū)，小類學(xué)科ENGINEERING, CHEMICAL工程：化工，分區(qū)：3區(qū)。
其他指標(biāo)
H-index：57，表明期刊具有較高的學(xué)術(shù)影響力。
年發(fā)文量：123篇。
隨著工程技術(shù)-工程：化工領(lǐng)域的快速發(fā)展，《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志有望繼續(xù)擴(kuò)大其影響力，吸引更多高質(zhì)量的研究文章，為讀者提供更全面的學(xué)術(shù)資源。
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