《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志屬于中科院分區(qū)：3區(qū)，影響因子是：2.6。

出版周期：Quarterly

OA是否開放：未開放

Gold OA文章占比：14.18%

是否預警：否

出版語言：English

中科院分區(qū)信息：

從大類學科分區(qū)來看，《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志在中科院最新升級版分區(qū)表中位于物理與天體物理3區(qū)。物理與天體物理是一個廣泛的學科領域，涵蓋了從工程：化工的各個層面。該雜志能夠躋身3區(qū)，足以證明其在物理與天體物理領域內的學術水平和影響力。

進一步細分到小類學科，該雜志則屬于ENGINEERING, CHEMICAL工程：化工領域，位于3區(qū)。

影響因子：2.6。從影響因子的角度來看，《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志也表現(xiàn)出色，該雜志影響因子在不同年份有所波動，但總體呈上升趨勢，這種趨勢不僅反映了該雜志在學術界的影響力逐漸增強，也體現(xiàn)了其在推動工程技術-工程：化工領域發(fā)展方面的積極作用。

從JCR分區(qū)信息的角度， 按JIF指標學科分區(qū)分為：ENGINEERING, CHEMICAL，分區(qū)：Q3，排名：91 / 170，百分位：46.8%；PHYSICS, APPLIED，分區(qū)：Q2，排名：81 / 179，百分位：55%；PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，分區(qū)：Q2，排名：12 / 40，百分位：71.3%；
按JCI指標學科分區(qū)分為：ENGINEERING, CHEMICAL，分區(qū)：Q2，排名：55 / 171，百分位：68.13%；PHYSICS, APPLIED，分區(qū)：Q2，排名：69 / 179，百分位：61.73%；PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，分區(qū)：Q2，排名：17 / 40，百分位：58.75%；