《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》國際標準刊號?ISSN：1932-5150，電子期刊的國際標準刊號：1932-5134。
創刊時間：2007年
出版周期：Quarterly
出版語言：English
國際簡稱：J MICRO-NANOLITH MEM
研究方向：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC - NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
期刊定位與內容：
微納光刻技術雜志(Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems)是一本由SPIE出版的學術刊物，主要報道ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY相關領域研究成果與實踐。本刊已入選來源期刊，該刊創刊于2007年，出版周期Quarterly。
《微納光刻技術雜志》發表專家撰寫的簡短易懂的評論，重點介紹工程：電子與電氣的最新關鍵主題。每篇文章都是對該主題的最新、完整的總結，方便尚未深入研究的人閱讀。
《微/納米光刻、MEMS 和 MOEMS 雜志》（JM3）發表同行評審的論文，內容涉及光刻、制造、封裝和集成技術的科學、開發和實踐，這些技術對于滿足電子、微機電系統、微光機電系統和光子學行業的需求必不可少。
出版周期與發文量：
該雜志出版周期Quarterly。近年來，該期刊的年發文量約為0篇。
學術影響力：
2021-2022年最新版WOS分區等級：Q3，2023年發布的影響因子為0，CiteScore指數3.4，SJR指數0.393。本刊非開放獲取期刊。
Cite Score（2024年最新版）
- CiteScore：3.4
- SJR：0.393
- SNIP：1.723
| 學科類別 | 分區 | 排名 | 百分位 |
| 大類：Engineering 小類：Mechanical Engineering | Q2 | 299 / 672 |
55%
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| 大類：Engineering 小類：Electrical and Electronic Engineering | Q2 | 389 / 797 |
51%
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| 大類：Engineering 小類：Atomic and Molecular Physics, and Optics | Q3 | 113 / 224 |
49%
|
| 大類：Engineering 小類：Condensed Matter Physics | Q3 | 223 / 434 |
48%
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| 大類：Engineering 小類：Electronic, Optical and Magnetic Materials | Q3 | 155 / 284 |
45%
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CiteScore：該指標由Elsevier于2016年提出，指期刊發表的單篇文章平均被引用次數。CiteScorer的計算方式是：例如，某期刊2022年CiteScore的計算方法是該期刊在2019年、2020年和2021年發表的文章在2022年獲得的被引次數，除以該期刊2019年、2020年和2021發表并收錄于Scopus中的文章數量總和。
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