關(guān)于《Ieee Transactions On Semiconductor Manufacturing》雜志是否接受AI輔助的論文，目前并沒有明確的官方聲明指出該雜志絕對(duì)接受或拒絕AI輔助撰寫的論文，可能會(huì)根據(jù)具體情況進(jìn)行逐案評(píng)估，作者在投稿前可以與雜志社進(jìn)行溝通或咨詢在線客服。

SCI期刊對(duì)AI輔助論文的接受程度因期刊而異，以下是對(duì)SCI期刊接受AI輔助論文情況的詳細(xì)分析：

一、AI輔助論文的使用限制

禁止生成核心內(nèi)容、禁止署名、保證數(shù)據(jù)完整性

二、AI輔助的用途

語言潤(rùn)色，文獻(xiàn)綜述，圖表推薦

三、建議與策略

1.了解目標(biāo)期刊政策：在投稿前，作者應(yīng)仔細(xì)研究目標(biāo)SCI期刊的政策和指南，了解其對(duì)AI輔助論文的態(tài)度和要求。

2.明確聲明AI使用情況：如果論文中使用了AI輔助技術(shù)，作者應(yīng)在投稿時(shí)明確聲明，并提供詳細(xì)的AI使用說明和范圍。

3.保持學(xué)術(shù)誠(chéng)信與原創(chuàng)性：作者應(yīng)確保論文的核心內(nèi)容和創(chuàng)新點(diǎn)是由自己獨(dú)立完成的，避免過度依賴AI生成的內(nèi)容。

4.深度改寫與個(gè)性化處理：對(duì)AI生成的內(nèi)容進(jìn)行深度改寫和個(gè)性化處理，以體現(xiàn)個(gè)人的學(xué)術(shù)思考和見解。

《Ieee Transactions On Semiconductor Manufacturing》雜志創(chuàng)刊于1988年，國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)稱為IEEE T SEMICONDUCT M，ISSN號(hào)：0894-6507，E-ISSN號(hào)：1558-2345。

該雜志由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版，出版周期為Quarterly，出版語言為English。作為一本專注于工程技術(shù)-工程：電子與電氣領(lǐng)域的學(xué)術(shù)期刊，它被國(guó)際權(quán)威數(shù)據(jù)庫(kù)SCIE收錄，在學(xué)術(shù)界具有較高的影響力。

《Ieee Transactions On Semiconductor Manufacturing》雜志中文名稱為：半導(dǎo)體制造的IEEE交易。

《IEEE 半導(dǎo)體制造學(xué)報(bào)》致力于解決制造復(fù)雜微電子元件（尤其是超大規(guī)模集成電路 (VLSI)）的難題。制造這些產(chǎn)品需要精密微圖案化、精確控制材料特性、超潔凈工作環(huán)境以及化學(xué)、物理、電氣和機(jī)械過程的復(fù)雜相互作用。

分區(qū)情況：

在中科院最新升級(jí)版分區(qū)表中，該雜志在大類學(xué)科工程技術(shù)中位于3區(qū)，小類學(xué)科PHYSICS, APPLIED物理：應(yīng)用中位于3區(qū)。

JCR分區(qū)信息按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū)，該雜志在ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC領(lǐng)域?yàn)镼2。

Cite Score數(shù)據(jù)顯示，CiteScore：5.2，SJR：0.967，SNIP：1.237

學(xué)科類別

大類：Engineering，小類：Industrial and Manufacturing Engineering，分區(qū)：Q2，排名：114 / 384，百分位：70%； 大類：Engineering，小類：Condensed Matter Physics，分區(qū)：Q2，排名：131 / 434，百分位：69%；

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