《Recent Patents On Nanotechnology》國際標準刊號?ISSN：1872-2105，電子期刊的國際標準刊號：2212-4020。
創(chuàng)刊時間：2007年
出版周期：3 issues/year
出版語言：English
國際簡稱：RECENT PAT NANOTECH
研究方向：MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY - NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
期刊定位與內(nèi)容：
最近的納米技術(shù)專利(Recent Patents On Nanotechnology)是一本由Bentham Science Publishers B.V.出版的學(xué)術(shù)刊物，主要報道MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY-NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY相關(guān)領(lǐng)域研究成果與實踐。本刊已入選來源期刊，該刊創(chuàng)刊于2007年，出版周期3 issues/year。
《最近的納米技術(shù)專利》發(fā)表專家撰寫的簡短易懂的評論，重點介紹材料科學(xué)：綜合的最新關(guān)鍵主題。每篇文章都是對該主題的最新、完整的總結(jié)，方便尚未深入研究的人閱讀。
《納米技術(shù)最新專利》發(fā)表全篇/短篇評論和研究文章，這些文章反映或涉及與專利相關(guān)的研究、已報告專利在研究中的應(yīng)用、關(guān)于特定專利應(yīng)用結(jié)果的比較討論等，以及客座編輯的納米技術(shù)領(lǐng)域最新專利專題。該期刊還收錄了一系列重要的納米技術(shù)最新專利。該期刊是所有參與納米技術(shù)研究的研究人員的必讀讀物。
出版周期與發(fā)文量：
該雜志出版周期3 issues/year。近年來，該期刊的年發(fā)文量約為29篇。
學(xué)術(shù)影響力：
2021-2022年最新版WOS分區(qū)等級：Q3，2023年發(fā)布的影響因子為2，CiteScore指數(shù)4.7，SJR指數(shù)0.364。本刊非開放獲取期刊。
Cite Score（2024年最新版）
- CiteScore：4.7
- SJR：0.364
- SNIP：0.524
| 學(xué)科類別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 大類：Engineering 小類：General Engineering | Q2 | 82 / 307 |
73%
|
| 大類：Engineering 小類：Condensed Matter Physics | Q2 | 152 / 434 |
65%
|
| 大類：Engineering 小類：General Materials Science | Q2 | 202 / 463 |
56%
|
CiteScore：該指標由Elsevier于2016年提出，指期刊發(fā)表的單篇文章平均被引用次數(shù)。CiteScorer的計算方式是：例如，某期刊2022年CiteScore的計算方法是該期刊在2019年、2020年和2021年發(fā)表的文章在2022年獲得的被引次數(shù)，除以該期刊2019年、2020年和2021發(fā)表并收錄于Scopus中的文章數(shù)量總和。
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