《Journal Of Applied Crystallography》國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)刊號(hào)?ISSN：1600-5767，電子期刊的國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)刊號(hào)：1600-5767。
創(chuàng)刊時(shí)間：1968年
出版周期：Bimonthly
出版語言：English
國(guó)際簡(jiǎn)稱：J APPL CRYSTALLOGR
研究方向：CHEMISTRY, MULTIDISCIPLINARYCRYSTALLOGRAPH - CRYSTALLOGRAPHY
期刊定位與內(nèi)容：
應(yīng)用晶體學(xué)雜志(Journal Of Applied Crystallography)是一本由International Union of Crystallography出版的學(xué)術(shù)刊物，主要報(bào)道CHEMISTRY, MULTIDISCIPLINARYCRYSTALLOGRAPH-CRYSTALLOGRAPHY相關(guān)領(lǐng)域研究成果與實(shí)踐。本刊已入選來源期刊，該刊創(chuàng)刊于1968年，出版周期Bimonthly。
《應(yīng)用晶體學(xué)雜志》發(fā)表專家撰寫的簡(jiǎn)短易懂的評(píng)論，重點(diǎn)介紹晶體學(xué)的最新關(guān)鍵主題。每篇文章都是對(duì)該主題的最新、完整的總結(jié)，方便尚未深入研究的人閱讀。
凝聚態(tài)研究、材料科學(xué)和生命科學(xué)中的許多研究課題都利用晶體學(xué)方法研究晶體和非晶體物質(zhì)，包括中子、X 射線和電子?！稇?yīng)用晶體學(xué)雜志》上發(fā)表的文章重點(diǎn)介紹了這些方法及其在識(shí)別結(jié)構(gòu)和擴(kuò)散控制相變、結(jié)構(gòu)-性能關(guān)系、缺陷、界面和表面的結(jié)構(gòu)變化等方面的應(yīng)用。還涵蓋了儀器和晶體學(xué)設(shè)備的發(fā)展、理論和解釋、數(shù)值分析和其他相關(guān)主題。該雜志是發(fā)表晶體學(xué)計(jì)算機(jī)程序信息的主要場(chǎng)所。
出版周期與發(fā)文量：
該雜志出版周期Bimonthly。近年來，該期刊的年發(fā)文量約為184篇。
學(xué)術(shù)影響力：
2021-2022年最新版WOS分區(qū)等級(jí)：Q1，2023年發(fā)布的影響因子為5.2，CiteScore指數(shù)10，SJR指數(shù)1.561。本刊非開放獲取期刊。
Cite Score（2024年最新版）
- CiteScore：10
- SJR：1.561
- SNIP：3.062
| 學(xué)科類別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 大類：Biochemistry, Genetics and Molecular Biology 小類：General Biochemistry, Genetics and Molecular Biology | Q1 | 34 / 221 |
84%
|
CiteScore：該指標(biāo)由Elsevier于2016年提出，指期刊發(fā)表的單篇文章平均被引用次數(shù)。CiteScorer的計(jì)算方式是：例如，某期刊2022年CiteScore的計(jì)算方法是該期刊在2019年、2020年和2021年發(fā)表的文章在2022年獲得的被引次數(shù)，除以該期刊2019年、2020年和2021發(fā)表并收錄于Scopus中的文章數(shù)量總和。
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