《Photonics And Nanostructures-fundamentals And Applications》雜志拒稿后是可以轉(zhuǎn)投其他期刊的， 但需要注意以下幾點(diǎn)：
一、確認(rèn)拒稿狀態(tài)：在轉(zhuǎn)投之前，作者必須確保文章確實(shí)已被《Photonics And Nanostructures-fundamentals And Applications》雜志拒稿。如果尚未收到明確的拒稿通知，建議耐心等待或主動(dòng)向雜志社詢問(wèn)審稿進(jìn)度和結(jié)果。
二、修改論文：根據(jù)審稿意見(jiàn)修改論文，確保解決提出的問(wèn)題，并改進(jìn)論文的結(jié)構(gòu)、方法、論證等方面。
三、轉(zhuǎn)刊操作建議
優(yōu)先選擇同出版社期刊?：Elsevier旗下其他物理與天體物理雜志可能更易接收。?
選擇匹配度更高的期刊：參考JCR分區(qū)、影響因子、收稿方向，避免因“主題不符”再次被拒。
附修改說(shuō)明?：轉(zhuǎn)投時(shí)建議提交針對(duì)前次拒稿意見(jiàn)的改進(jìn)說(shuō)明，提升通過(guò)率。
四、注意事項(xiàng)
避免一稿多投，保持耐心和信心。
《Photonics And Nanostructures-fundamentals And Applications》雜志概括
國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)稱：PHOTONIC NANOSTRUCT
創(chuàng)刊時(shí)間：2003年
出版商：Elsevier
出版周期：Tri-annual
出版語(yǔ)言：English
出版地區(qū)：NETHERLANDS
ISSN：1569-4410，E-ISSN：1569-4429
收錄數(shù)據(jù)庫(kù)：SCIE
學(xué)科領(lǐng)域：工程技術(shù)-材料科學(xué)：綜合（PHYSICS, APPLIED）
期刊定位：專注于發(fā)表物理：應(yīng)用領(lǐng)域的文章，旨在為研究人員提供該領(lǐng)域的最新研究成果和前沿動(dòng)態(tài)。
《Photonics And Nanostructures-fundamentals And Applications》雜志審稿周期預(yù)計(jì)為： 較慢,6-12周 約10周，年發(fā)文量：約77篇，H-index：34。
《Photonics And Nanostructures-fundamentals And Applications》雜志數(shù)據(jù)
（1）影響因子
該雜志的影響因子為2.5，在物理：應(yīng)用領(lǐng)域具有較高的學(xué)術(shù)影響力。
（2）分區(qū)情況
中科院分區(qū)：
大類學(xué)科：物理與天體物理3區(qū)。
小類學(xué)科：PHYSICS, APPLIED物理：應(yīng)用3區(qū)。
JCR分區(qū)：
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū)分區(qū)：Q3區(qū); 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)分區(qū)：Q2區(qū);
（3）CiteScore
CiteScore數(shù)值為5，（ 小類學(xué)科：PHYSICS, APPLIED，分區(qū)為Q2，百分位：68%。小類學(xué)科：PHYSICS, APPLIED，分區(qū)為Q2，百分位：67%。)
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