摘要：實(shí)驗(yàn)研究了表面粗糙度、側(cè)壁垂直度與各刻蝕參量之間的關(guān)系，通過(guò)對(duì)刻蝕效果的分析，發(fā)現(xiàn)在低功率、高CHF3含量、低壓強(qiáng)的情況下能獲得最小的表面粗糙度；在高功率、50％CHF3含量、低壓強(qiáng)的情況下能獲得較陡直的波導(dǎo)側(cè)壁。利用優(yōu)化的刻蝕條件，對(duì)PMMA進(jìn)行刻蝕，得到了均方根粗糙度小、側(cè)壁陡直的波導(dǎo)。實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn)，該刻蝕條件對(duì)其他聚合物光波導(dǎo)材料的刻蝕也具有一定的指導(dǎo)意義。