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氬氣壓對(duì)磁控濺射制備CdZnTe薄膜形貌、結(jié)構(gòu)和電學(xué)特性的影響 【正文】
氬氣壓對(duì)磁控濺射制備CdZnTe薄膜形貌、結(jié)構(gòu)和電學(xué)特性的影響
《功能材料》 不詳
- cdznte
- 遷移率
- 薄膜成分
- 磁控濺射
- 薄膜形貌
摘要：引言碲鋅鎘(CdZnTe,CZT)是一種性能優(yōu)異的Ⅱ-Ⅵ族化合物半導(dǎo)體材料,具有高原子序數(shù)、高電阻率、優(yōu)良的載流子輸運(yùn)特性等優(yōu)點(diǎn)[1-3]。相對(duì)于體晶體,CZT薄膜可進(jìn)行大面積制備,在太陽(yáng)能電池、工業(yè)和醫(yī)療用X射線成像等領(lǐng)域具有重要應(yīng)用前景[4-5].真空蒸鍍、磁控濺射、近空間升華等方法均曾被應(yīng)用于CZT薄膜的制備[1,6]。其中磁控濺射法的優(yōu)點(diǎn)是薄膜均勻性好、成分可控,可低溫制備等[7-7].人們?cè)?jīng)研究過(guò)濺射功率、襯底溫度.
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功能材料信息
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主管單位：中國(guó)儀器儀表學(xué)會(huì)儀表材料分會(huì);重慶儀表材料研究所;主辦單位：中國(guó)儀器儀表學(xué)會(huì)儀表材料分會(huì);重慶儀表材料研究所
